[初级]黄某向国家知识产权局提出集成电路布图设计保护申请。下列情形中，国家知识产权局不予受理的是（ ）。
黄某的布图设计自创作完成之日起已满5年，但不足10年
黄某没有将布图设计投入商业利用，但提交的是布图设计的复制件或者图样
黄某的布图设计在英国首次商业利用刚满1年
黄某提交的申请文件使用的是中文
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